電子デバイス材料
目次
第１章 はじめに
１．１ 今なぜ機能材料か
１．２ わが国の産業の変遷
１．３ 国際化の中で
第２章 機能材料とデバイス
２．１ 機能材料・デバイスで何が変わったか
２．２ 環境との調和
２．３ 機能材料・デバイスの貢献
２．４ 機能材料とデバイスの可能性
第３章 シリコンと集積回路
３．１ なぜシリコンは世の中に浸透したか
３．２ シリコンの特徴
３．３ シリコンでできること
３．４ 支えた技術
３．５ ＣＭＯＳと高集積化
３．６ 微細化と比例縮小則
３．７ 歩留りと信頼性の高さ
３．８ 価格と大口径化
３．９ 高集積回路の必要性
第４章 化合物半導体
４．１ シリコン時代の化合物半導体
４．２ 化合物半導体の種類と性質
４．３ 化合物半導体の成長と育成技術
４．４ アナログ素子
４．５ デジタル素子
４．６ 発光ダイオード（ＬＥＤ）
４．７ レーザダイオード（ＬＤ）
４．８ 光素子の応用
第５章 配線材料と薄膜・厚膜材料
５．１ 配線材料の変遷と種類
５．２ 配線材料と電流容量
５．３ プリント配線基板（ＰＷＢ）
５．４ ダイスボンデング材料
５．５ ワイアボンデング材料
５．６ 厚膜材料
５．７ 薄膜材料
５．８ サーマルヘッドへの応用
第６章 光配線材料
６．１ 光のメリット
６．２ 光通信への応用
６．３ 光ファイバの原理と特徴
６．４ 光ファイバの製法
６．５ 光ファイバの種類
６．６ 非線形光ファイバ
６．７ 光平面回路
６．８ セルフォックレンズとその応用
第７章 セラミック材料
７．１ セラミックスとは
７．２ 基盤用セラミックス
７．３ 誘電体セラミックス
７．４ 電気伝導性セラミックス
７．５ 透光性セラミックス
７．６ 超伝導材料
第８章 磁性材料と記録材料
８．１ 磁性材料とエレクトロニクス
８．２ 永久磁石
８．３ 高透磁率材料
８．４ 磁気記録と記録媒体
８．５ 光磁気（ＭＯ，ｍａｇｎｅｔｏ ｏｐｔｉｃａｌ）記録と媒体
８．６ 磁性流体（ｍａｇｎｅｔｉｃ ｌｉｑｕｉｄ）
８．７ 磁気メモリ（ＭＲＡＭ）
第９章 ディスプレイ材料
９．１ ディスプレイの重要性
９．２ 液晶の発見からの経過
９．３ 液晶の種類と性質
９．４ 液晶表示の原理
９．５ ＴＦＴ−ＬＣＤの特徴と製法
９．６ ＥＬディスプレイとは
９．７ 有機ＥＬディスプレイ
第１０章 電池材料
１０．１ 電池の発展
１０．２ 一次電池
１０．３ 二次電池
１０．４ 燃料電池
１０．５ 電気二重層コンデンサ電池
第１１章 圧電，センサ，エネルギー変換材料
１１．１ 圧電材料
１１．２ 抵抗線ストレンゲージ
１１．３ 強磁性体磁気センサ
１１．４ ペルチエ素子
１１．５ 太陽電池
第１２章 膜形成技術
１２．１ 成膜方式
１２．２ 物理的方法
１２．３ 気相成長法（ＣＶＤ）
１２．４ スピンオン法
第１３章 有機材料
１３．１ プラスチック材料
１３．２ フィルムコンデンサ
１３．３ 導電性樹脂
１３．４ 感光性樹脂（レジスト）
１３．５ 電子写真用有機感光体（ＯＰＣ）
１３．６ エレクトレット
１３．７ 光学用プラスチック
１３．８ 分離膜
第１４章 まとめ
１４．１ エレクトロニクスの凄さ
１４．２ 特許と産業
１４．３ 技術の予測について
１４．４ 何をめざすか
付録 よく使う定数
索引
余録目次
１． 炭素繊維
２． 鉄の主生産地のシェア推移
３． ソフトウェア産業とインド
４． 無害で安全な化合物フロン
５． 画像の画素数と情報量
６． 鉱物資源の産地
７． 紙について
８． 集積回路の基本特許
９． 各種結晶の成長速度
１０． 集積回路のできるまで
１１． バイポーラトランジスタの構造
１２． クラーク数，地殻元素の割合
１３． 真空度と平均自由工程
１４． 耐熱抵抗材料
１５． 遅延時間と容量
１６． 状態図について
１７． 樹脂の屈折率
１８． 板ガラス（フロートガラス）の製法
１９． 光アイソレータ
２０． 必要エネルギー
２１． 傾斜機能材料
２２． 文字の情報量
２３． ホールバーニング
２４． 偏光板
２５． サーモトロピック液晶とリオトロピック液晶
２６． 形状記憶合金
２７． 真空度の単位
２８． ゼリーから作るガラス ゾル・ゲル法
２９． 希土類（レアメタル）の用途
３０． 繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）
３１． カーボンナノファイバとナノチューブ
３２． 特許出願から成立まで
３３． ノーベル賞受賞者は不振
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